国产之光:从卖手机开始
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第76章 就你了! !

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先不说你连续曝光五次最终能成功几个,就算成功了,28nm也远远解决不了钉子现在的危机。

更别提增的材料成本了。

光刻工艺的核心资源是一种叫做光刻胶的化学合成剂,这东西在国内也无法制造。

在层层垄断下,光刻胶的进量就那么多,其他厂商会允许你这么费?

在目前,duv光刻机受限于度制程,已经无法满足后来14nm、7nm、5nm等更高制程的需求了,这时候就需要依靠euv光刻机。

euv光刻机采用的是一种13.5nm的极紫外光,可以在大约200平方毫米的面积下集成超过105亿颗晶体管。

用euv光刻机制造7nm级芯片,只需要曝光一次。

在现阶段,

国产芯片仅能满足常生产生活的基础要求,高端光刻机无法进国内,高级芯片生产的困难还是很严峻。

钉子如果想真正解决芯片的问题,第一件需要解决的就是光刻机度。

“既然不能制造光刻机,那能不能对现有的光刻机制程进行改进?”

罗离忽然有了一个大胆的想法。

众所周知,光刻机的曝光分辨率与波长直接相关,随着科技的进步,极限光源的波长也在不断缩小,从duv光源的248nm级数不断突,一直来到现在的13.5nm极紫光束,进步不可谓不大。

这也是现在芯片技术能突个位数的根本原因。

既然无法从其他资本手中买到高级光刻机,也无法凭空从系统中兑换,那有没有可能通过系统的黑科技技术,将国内现有的光刻机工艺水平提升到世界水平……

思绪至此,罗离的心跳开始加快。

对啊,

改装升级的成本可比从无到有低多了,而且现在国内的芯片工艺也不算太拉胯,要是……

罗离没有丝毫犹豫,马上打开系统兑换窗,然后在搜索框中输文字。

再度摒弃一系列花里胡哨的科幻风选项,罗离一气直接将列表拖拽到最底下。

一行不起眼的小字出现在眼前。

【“稳态微距束”技术:20万积分;】

光速浏览完介绍,罗离瞪大了眼睛。

就你了!

咬咬牙,直接选择兑换!!

“唰!”

强光一闪而过。

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