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黄明哲年初四就接到马知力的报告，他连忙赶过去材料研究所。
“社长，你终于来了。”马知力兴奋的边走边说。
看着马知力等
那满眼血丝、
发
糟糟的样子，就知道他们这些天一直在测试光敏材料规律模型。
“老马要劳逸结合，办公室谈吧！”黄明哲向办公室去。
“多谢社长关心，我一时间太兴奋而已。”
办公室里面，在场只有马知力和四个研究员，其他都还没有回来上班。
“都坐。”黄明哲坐下之后：“模型计算出来的出材效率是8.6%左右，而出材合格率是1.7%左右。”
“是的，社长。”马知力兴奋的说道：“社长，你研发的计算模型太厉害了，简直是材料研发的神器。”
“宇宙万物都在数学之中，没有什么不可以被计算。”黄明哲微笑着说道。
如果之前有在马知力等面前这样说，他们绝对会嗤之以鼻，但是现在他们已经有些相信了。
“社长，你这个模型要是发出去，估计可以引发材料学革命。”马知力赞叹道。
黄明哲摇摇说道：“这种国际
神要不得，这个模型我们内部自己用就可以了。”
“社长说得对。”
“我看了你们的报告，现在我给你们下一个任务。”
“社长请吩咐。”马知力连忙拿出笔记本说道。
“研发一种x
线高敏胶。”
“x线高敏胶?社长是想研发光刻胶吧！”马知力一听便知道黄明哲的打算。
黄明哲点了点：“没有错，就是x线级别的光刻胶，我提几个要求，波长最好在3～8纳米之间；x线敏感度要足够高，最好可以在几秒钟之内彻底溶解；另外对于x线的能量级别，最好不需要高能级就可以实现快速光分解。”
“社长，如果我们研发x线光刻胶，这个可是没有客户的。”马知力提醒道。
目前市面上的光刻机的光源，一般分为紫外光（uv）、
紫外光（duv）、极紫外光（euv），其中最先进的光刻机，就是尼德兰的阿斯麦公司生产的极紫外光（euv），波长为13.4纳米。
但是其实在上个世纪八十年代，光刻机行业之中，还有除了极紫外光（euv）路线，还存在着另一个路线——x线光刻机。
为什么波长在10纳米以下的x线光刻机，最后被极紫外光（euv）淘汰?
原因有两个，一是效率问题，x线照下光刻胶的光刻速度比较慢；二是确度问题，为什么说波长10纳米以下的x线，光刻度差?因为掩模做不到10纳米以下。
掩模就是电路图的母板，为什么极紫外光（euv）的度高，原因在于紫外光可以使用凸透镜缩小从掩模过来的光线，而所有都知道x线的穿透力非常强，凸透镜根本无法聚焦。
所以x线光刻机被淘汰了。
市面上没有x线光刻机，也就意味着没有客户。
“这个问题不是问题。”
“社长没有客户的话……”
黄明哲打断了马知力：“知道x线光刻机为什么被淘汰吗?”
马知力点了点。
“效率问题在于光刻胶的光敏
，如果我们研发一种可以在几秒钟内完成光刻的x线光刻胶，那效率还是问题吗?”黄明哲反问道。
“嗯?”马知力一愣。
确实如同黄明哲说的那样，光刻效率问题其实就是光刻胶光敏的影响，归根结底就是材料问题，而材料问题不恰恰就是思维社的强项?
“至于凸透镜无法聚焦x线，我们为什么不制造一种可以聚焦x线的凸透镜，这个同样是凸透镜材料的光敏，材料可以改变一切。”黄明哲笑着提醒道。
“对啊！我怎么没有想到?”马知力顿时瞪大眼睛。
其他顿时也呼吸急促起来，如果他们解决了光刻胶和凸透镜的光敏，岂不是相当于完成了x线光刻机的缺点弥补。
而x线光刻机的先天优势，就是发散低、光线集中、波长短小悍。
“我们要完成一个独立自主的光刻机系统，就不能按部就班走西方的老路，不然永远无法超越对方。”黄明哲说道。
这个问题其实就是国内光刻机行业发展的拦路虎，按照西方的路线走，别的专利怎么绕过去?
另外光刻机的市场非常小，全世界来来去去就那么多家芯片制造企业，阿斯麦公司和这些芯片制造企业的关系千丝万缕，哪怕是造出来，估计也卖不出去。
“社长，我们马上安排材料计算，一定拿下x线光刻胶和x线凸透镜。
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